Nová technológia prípravy senzorov, detektorov a memristorov pre inteligentnú mikroelektroniku v 21. storočí

Projekt v 21. storočí predstavuje nový prístup k technológii prípravy týchto mikroelektronických súčiastok. Cieľom je výskum procesu výroby senzorov, detektorov a memristorov prostredníctvom novej inovatívnej technológie ALD využívajúcej kontrolovaný lokálny rast hradlových, izolačných a pasivačných oxidových vrstiev metódou depozície po atomárnych vrstvách (atomic layer deposition, ALD). 

Pokrýva 3 aktivity:

• 0H1 - príprava laboratórnych prototypov elektródových vrstiev mikroelektronických senzorov, detektorov a memristorov s využitím ultra-vákuovej depozície a fotolitografie a ich komplexná charakteristika pomocou vysokorozlišovacej RTG difrakcie (TRL 4),
• 0H2  - výskum  prípravy oxidových vrstiev mikroelektronických senzorov, detektorov a memristorov pomocou ALD s cieľom umožniť bezprecedentnú kontrolu vlastností pripravovaných vrstiev a zároveň vysokú opakovateľnosť procesu (na prípravu oxidov bude využitá aj lokálna ALD depozícia nevyžadujúca litografiu, čo je revolučná technológia vyvíjaná v projekte H2020 Atoplot za účasti ElÚ SAV, v.v.i..) (TRL 4),
• 1H3 – priemyselný výskum za účelom návrhu komponentov mechanického a automatizačného riešenia k technológii na lokálny rast ALD oxidov (TRL 4). 

Bude realizovaný na existujúcich výskumných pracoviskách partnerov (Piešťany, Bučany, Bratislava) skúseným tímom 32 odborníkov, na čele ktorých stoja 5 garanti - I Projekt involvuje zahraničného experta aj navrátivšieho slovenského odborníka .

Vedeckým výstupom budú odborné publikácie (min. 6), laboratórne prototypy senzorov, detektorov a memristorov pripravené využitím unikátnej technológie ALD, ako aj samotný koncept ALD zariadenia. Skúmaná technológia otvára nové oblasti pre riadiace a logické systémy v 21. storočí.